反滲透的清洗

   在正常運行一段時間后，反滲透膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉淀、硫酸鈣沉淀、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉淀、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM 天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)、微生物(藻類、霉菌、真菌)等污染。

   污染性質和污染速度取決于各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的，如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是在長期停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。

   當反滲透系統（或裝置）出現以下癥狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：
   在正常給水壓力下，產水量較正常值下降10～15%；
   為維持正常的產水量，經溫度校正后的給水壓力增加10～15%；
   產水水質降低10～15%，透鹽率增加10～15%；
   給水壓力增加10～15%；
   系統各段之間壓差明顯增加（可能沒有儀表監測該參數）。
在運行數據未標準化的情況下，如果關鍵參數沒有改變，上述清洗原則依然可以適用。保持穩定的運行參數主要是指產水流量、產水背壓、回收率、溫度及TDS。

   已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12 個月一次。如果在1 個月以內清洗一次以上，就需要對反滲透預處理系統做進一步調整和改善，如追加投資，或重新進行反滲透系統設計。如果清洗頻率是每3 個月一次，就可以針對現有設備進行改造。

   當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的是清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學藥劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。如果膜元件的性能降低至正常值的30-50%，那么，欲完全恢復膜元件出廠時的初始性能是不可能的。

   在反滲透系統設計中，可使用反滲透產品水沖刷系統中的污染物以降低清洗頻率。用產品水浸泡膜元件可有助于污垢的溶解、脫落，降低化學清洗的頻率。

   清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對于幾種污染同時存在的復雜情況，清洗方法是采用低PH 和高PH 的清洗液交替清洗。

   清洗過后，水量上升了。那說明清洗還是有一定的效果的。但是很快的又堵了，就說明是你的進水有問題。可能有三種原因：
        1.進水SDI過高，且系統回收率比較高，導致系統結垢趨勢明顯。
        2.反滲透阻垢劑投加量不夠，或是選型不對。
        3.系統有微生物污染。細菌繁殖，導致膜的污染和堵塞。